特許明細書 EUV露光装置の光学系：自力翻訳での誤解ポイント
今回は、ASML/CARL ZEISS SMT社の特許"OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL SYSTEM FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR TREATING SUCH AN OPTI...
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学習記録 触媒反応
前回の記事（「EUV露光装置で生じる汚染物質の野除去」）では、炭素汚染物のうちC-C単結合を有するものは、σ結合のみで電子の偏りがないため、酸化的手法では分解が難しく、還元的に作用する水素ラジカルが有効であることを紹介しました。今回は、その...
特許明細書 EUV露光装置で生じる汚染物質の除去
前回の記事では、EUV露光装置の概要をまとめましたが、その際、内部で生じる炭素汚染の問題にも触れました。特に光学素子などの高精度部材に対する汚染は、リソグラフィ工程の性能や歩留まりに直結する深刻な課題です。今回は、そうした炭素汚染のなかでも...
学習記録 EUV露光装置
新たな明細書翻訳に取りかかるにあたり、今回は、背景知識の整理から始めます。アドバイスをいただきありがとうございました。半導体製造の前工程における中核プロセスであるリソグラフィ（塗布・露光・現像）のうち、「露光」を担う露光装置についてはこれま...
学習記録 光学素子のパージ
ASML NETHERLANDS B.V.「FLUID PURGING SYSTEM（WO2021/249705）」を題材とし、半導体製造装置における光学素子のパージシステムに関する翻訳に取り組みました。この明細書においては、光学素子の位置...
特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す３
見直しの気づきの最終版3です。"flow past"の検討The method also includes substantially preventing a gas from flowing past a deformable seal...
学習記録 ループから抜け出す判断軸
正確さを求めるほどに訳が止まり、作業が進まなくなる部分が増えました。一言一言を見直すことは大事です。しかし、それに非常に時間がかかってしまうとしたらそれは本当に良いこと、ではありません。今のような「勉強ができる状態」がずっと続くわけでないこ...
特許明細書 思い込みと言語感覚
昨日ようやく翻訳を終えました。この作業の中で考えたこと、あるいは脱線しながら見えてきたことを、今更ながら振り返っておこうと思います。背景となった文（原文）：In this way, liquid 11 can be provided in ...
特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す２
前回に続き、自力翻訳と公開訳の比較を通じて、訳文と構文、技術的背景の理解を見直しました。前回に続き、ASMLの液浸露光装置に関する特許明細書を題材にしています。In this way, liquid 11 can be provided i...
特許明細書 見直しの見直し
前回自力翻訳に関し、ブログでヒントをいただきありがとうございます。During exposure, the substrate table is moved relative to the immersion system (and the...