特許翻訳　アウトプットで学ぶ

昨日ようやく翻訳を終えました。この作業の中で考えたこと、あるいは脱線しながら見えてきたことを、今更ながら振り返っておこうと思います。背景となった文（原文）：In this way, liquid 11 can be provided in ...

前回に続き、自力翻訳と公開訳の比較を通じて、訳文と構文、技術的背景の理解を見直しました。前回に続き、ASMLの液浸露光装置に関する特許明細書を題材にしています。In this way, liquid 11 can be provided i...

前回自力翻訳に関し、ブログでヒントをいただきありがとうございます。During exposure, the substrate table is moved relative to the immersion system (and the...

自力翻訳と公開訳の比較を見直しました。今回は、ASMLの特許明細書を題材にしながら振り返ります。Various orientations and numbers of in- and out-lets positioned around t...

先月未完であった自力翻訳を終え、現在は見直し作業に入っています。自力翻訳をしたのは、以下の明細書です。US8233134B2"Lithographic apparatus and device manufacturing method"AS...

随分間隔が空いた更新になりました。前回立てた目標の振り返り・新たな明細書を読む思った以上に時間がかかるものの、分野を絞り継続中です。ざっくり内容を把握するには結局調べ物も多いのですが、時間を決めて読み続けます。・週2回のブログ更新を継続記事...

これまでリソグラフィと言えばフォトリソグラフィを前提に考えてきました。しかし実際には、リソグラフィ技術には様々な方式が存在します。今日はその中でも特にナノインプリントリソグラフィ（NIL)に焦点を当ててみます。リソグラフィとはリソグラフィ（...

翻訳作業の中で整理した露光装置の構造についてまとめました。露光装置の構造露光装置は、大きく以下の要素で構成されます。光学系＋精密駆動ステージ＋制御(位置決めなど)システム＋温度・真空管理(環境制御)システム光学系を詳しく見ると、照明系、投影...

先日読んでいた液浸露光装置の特許明細書の一部、脱イオン装置に関する記述についてまとめます。液浸露光における脱イオン処理の必要性半導体製造では回路線幅がナノメートル（nm）レベルの精密加工が行われており、わずかな不純物の混入が製造時の良品率に...

先月、以下4つ課題を設定し新年最初の1ヶ月目を過ごしました。時間管理細切れアウトプット手書きで理解を深めるまずは一周する（全体把握）これらの課題に基づいた取り組みを振り返り修正していきます。今回は「1．時間管理、4．全体把握」、「2．細切れ...