特許翻訳　アウトプットで学ぶ

なぜシールドが必要かここまでで、プラズマがどのようにウエハ表面をエッチングするかを見てきました。エッチングはエッチングチャンバという低圧の密封空間で行われますが、ガスなのでチャンバ内に自然に広がります。しかし削りたいのは、ウエハ表面のパター...

前回は、ウェット/ドライ、スパッタ/プラズマ/RIEというエッチング方式の概要を確認しました。今回は、その中でもよく用いられるRIEにおけるプラズマにフォーカスしてみます。プラズマエッチングで何が起きているか半導体エッチングにおけるプラズマ...

平行平板型ドライエッチャの特許をきっかけに、エッチング装置を起点に、明細書や本を読んでいます。そこで一度、エッチングの概要、エッチングとプラズマとの関係を整理してみます。今回は、エッチングとは何か、ウェットとドライ、等方性・異方性とは、まで...

今回、この明細書を翻訳しました。古い特許ですが、平行平板型のプラズマエッチング装置の基本を理解するのに適していると考え選びました。訳し終えた段階での理解をまとめます。"Plasma etching apparatus utilizing p...

ご指摘をありがとうございました。いただいたコメントをきっかけに、"load lock"という言葉の本来の構造を再度確認しました。前回のブログでは、主にパージガスの流れ（discharge）に焦点を当てていました。そのため、"load loc...

今回は、半導体製造装置のロードロック装置に関する明細書を訳しました。対象は、前回参照していた「ロードロック装置」に関する特許（US9228685B2）です。ロードロック装置とはロードロックとは、真空環境のチャンバと外部大気圧環境をつなぐ中継...

デスクトップ PC の画面全体が、黒い点で覆われました。これまで見たことのない症状に違和感を覚えました。症状と対策少し席を離れて戻ると、デュアルディスプレイ環境において片方の画面がまだらになっており、数秒後にはその点が端から消え、今度はもう...

用語：process requirementsThe controller, depending on the processing requirements and/or the type of system, may be progra...

例２もうひとつ、こちらもprocessが用いられており、他にも自分の訳語選択に課題があったため、まとめます。The controller, depending on the processing requirements and/or th...

出典：WO2021173154（Lam Research）”REDUCTION OF SIDEWALL NOTCHING FOR HIGH ASPECT RATIO 3D NAND ETCH”（Lam Research）本明細書には、装置制...