学習記録 プラズマ閉じ込めの基本
今回、この明細書を翻訳しました。古い特許ですが、平行平板型のプラズマエッチング装置の基本を理解するのに適していると考え選びました。訳し終えた段階での理解をまとめます。"Plasma etching apparatus utilizing p...
学習記録 
学習記録 装置を動詞化する
ご指摘をありがとうございました。いただいたコメントをきっかけに、"load lock"という言葉の本来の構造を再度確認しました。前回のブログでは、主にパージガスの流れ（discharge）に焦点を当てていました。そのため、"load loc...
特許明細書 パージガスの流れと “discharge” の意味
今回は、半導体製造装置のロードロック装置に関する明細書を訳しました。対象は、前回参照していた「ロードロック装置」に関する特許（US9228685B2）です。ロードロック装置とはロードロックとは、真空環境のチャンバと外部大気圧環境をつなぐ中継...
ツール 黒い点と再起動、備え
デスクトップ PC の画面全体が、黒い点で覆われました。これまで見たことのない症状に違和感を覚えました。症状と対策少し席を離れて戻ると、デュアルディスプレイ環境において片方の画面がまだらになっており、数秒後にはその点が端から消え、今度はもう...
学習記録 見直しの見直し
用語：process requirementsThe controller, depending on the processing requirements and/or the type of system, may be progra...
特許明細書 3D NAND のエッチング装置に関する特許明細書の検討（その2）
例２もうひとつ、こちらもprocessが用いられており、他にも自分の訳語選択に課題があったため、まとめます。The controller, depending on the processing requirements and/or th...
特許明細書 3D NAND のエッチング装置に関する特許明細書の検討
出典：WO2021173154（Lam Research）”REDUCTION OF SIDEWALL NOTCHING FOR HIGH ASPECT RATIO 3D NAND ETCH”（Lam Research）本明細書には、装置制...
特許明細書 特許に登場する蒸気圧曲線
実際の蒸気圧曲線蒸気圧曲線の図は、実際の特許明細書にも重要な図として登場します。JP6604911B2の特許です。出典：「エッチング処理方法」（東京エレクトロン）蒸気圧曲線の登場背景少しざっくりですが、この特許を説明します。この明細書は、N...
学習記録 蒸気圧曲線から
今回、エッチング処理に関する特許を読む中で蒸気圧曲線が登場しました。基礎を整理し直し、次回明細書に進みます。蒸発と沸騰（気化現象）物質が液体から気体へ変わる「気化」には、蒸発と沸騰があります。蒸発：液体または固体の表面だけでおこる気化の現象...
学習記録 “in a horizontal posture”？ position / horizontally の使い分け
前回記事では、“in a horizontal posture” をどう読むかで立ち止まりました。その時点で「なんとなく不自然だ」という感覚はあったのですが、明確に言語化できず、”susceptor 102 is disposed to h...