特許翻訳　アウトプットで学ぶ

前回の記事「固体でも『拡散』する ― EUVミラーと水素の侵入」では、EUVリソグラフィ装置内で発生する水素ラジカルが、固体であるはずのEUVミラー多層膜内部に拡散し、内部で水素分子として再結合することでブリスタリングを引き起こすしくみにつ...

前回は次に特許の話を書くつもりでしたが、その前にひとつ、翻訳とは一見関係ないようでいて実は日々の会話も「言葉の扱い」そのものだなと感じた話です。感情に支配された瞬間子育ての中で、ふと自分の言葉の使い方に「つい言い過ぎたな」と反省する場面があ...

拡散は、固体でも起きる拡散と聞くと、空気中の香りや水中のインクのような、流体中の現象を思い浮かべないでしょうか。確かに拡散とは、気体や液体がじわじわと広がっていく現象としてよく知られています。ところが実は、「固体の中でも拡散は起きる」のです...

今回は、ASML/CARL ZEISS SMT社の特許"OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL SYSTEM FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR TREATING SUCH AN OPTI...

前回の記事（「EUV露光装置で生じる汚染物質の野除去」）では、炭素汚染物のうちC-C単結合を有するものは、σ結合のみで電子の偏りがないため、酸化的手法では分解が難しく、還元的に作用する水素ラジカルが有効であることを紹介しました。今回は、その...

前回の記事では、EUV露光装置の概要をまとめましたが、その際、内部で生じる炭素汚染の問題にも触れました。特に光学素子などの高精度部材に対する汚染は、リソグラフィ工程の性能や歩留まりに直結する深刻な課題です。今回は、そうした炭素汚染のなかでも...

新たな明細書翻訳に取りかかるにあたり、今回は、背景知識の整理から始めます。アドバイスをいただきありがとうございました。半導体製造の前工程における中核プロセスであるリソグラフィ（塗布・露光・現像）のうち、「露光」を担う露光装置についてはこれま...

ASML NETHERLANDS B.V.「FLUID PURGING SYSTEM（WO2021/249705）」を題材とし、半導体製造装置における光学素子のパージシステムに関する翻訳に取り組みました。この明細書においては、光学素子の位置...

見直しの気づきの最終版3です。"flow past"の検討The method also includes substantially preventing a gas from flowing past a deformable seal...

正確さを求めるほどに訳が止まり、作業が進まなくなる部分が増えました。一言一言を見直すことは大事です。しかし、それに非常に時間がかかってしまうとしたらそれは本当に良いこと、ではありません。今のような「勉強ができる状態」がずっと続くわけでないこ...