特許明細書

今回は、ASML/CARL ZEISS SMT社の特許"OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL SYSTEM FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR TREATING SUCH AN OPTI...

前回の記事では、EUV露光装置の概要をまとめましたが、その際、内部で生じる炭素汚染の問題にも触れました。特に光学素子などの高精度部材に対する汚染は、リソグラフィ工程の性能や歩留まりに直結する深刻な課題です。今回は、そうした炭素汚染のなかでも...

ASML NETHERLANDS B.V.「FLUID PURGING SYSTEM（WO2021/249705）」を題材とし、半導体製造装置における光学素子のパージシステムに関する翻訳に取り組みました。この明細書においては、光学素子の位置...

見直しの気づきの最終版3です。"flow past"の検討The method also includes substantially preventing a gas from flowing past a deformable seal...

昨日ようやく翻訳を終えました。この作業の中で考えたこと、あるいは脱線しながら見えてきたことを、今更ながら振り返っておこうと思います。背景となった文（原文）：In this way, liquid 11 can be provided in ...

前回に続き、自力翻訳と公開訳の比較を通じて、訳文と構文、技術的背景の理解を見直しました。前回に続き、ASMLの液浸露光装置に関する特許明細書を題材にしています。In this way, liquid 11 can be provided i...

前回自力翻訳に関し、ブログでヒントをいただきありがとうございます。During exposure, the substrate table is moved relative to the immersion system (and the...

先月未完であった自力翻訳を終え、現在は見直し作業に入っています。自力翻訳をしたのは、以下の明細書です。US8233134B2"Lithographic apparatus and device manufacturing method"AS...

翻訳作業の中で整理した露光装置の構造についてまとめました。露光装置の構造露光装置は、大きく以下の要素で構成されます。光学系＋精密駆動ステージ＋制御(位置決めなど)システム＋温度・真空管理(環境制御)システム光学系を詳しく見ると、照明系、投影...

先日読んでいた液浸露光装置の特許明細書の一部、脱イオン装置に関する記述についてまとめます。液浸露光における脱イオン処理の必要性半導体製造では回路線幅がナノメートル（nm）レベルの精密加工が行われており、わずかな不純物の混入が製造時の良品率に...