特許明細書 EUV露光装置で生じる汚染物質の除去
前回の記事では、EUV露光装置の概要をまとめましたが、その際、内部で生じる炭素汚染の問題にも触れました。特に光学素子などの高精度部材に対する汚染は、リソグラフィ工程の性能や歩留まりに直結する深刻な課題です。今回は、そうした炭素汚染のなかでも...
特許明細書 
学習記録 EUV露光装置
新たな明細書翻訳に取りかかるにあたり、今回は、背景知識の整理から始めます。アドバイスをいただきありがとうございました。半導体製造の前工程における中核プロセスであるリソグラフィ（塗布・露光・現像）のうち、「露光」を担う露光装置についてはこれま...
学習記録 光学素子のパージ
ASML NETHERLANDS B.V.「FLUID PURGING SYSTEM（WO2021/249705）」を題材とし、半導体製造装置における光学素子のパージシステムに関する翻訳に取り組みました。この明細書においては、光学素子の位置...
特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す３
見直しの気づきの最終版3です。"flow past"の検討The method also includes substantially preventing a gas from flowing past a deformable seal...
学習記録 ループから抜け出す判断軸
正確さを求めるほどに訳が止まり、作業が進まなくなる部分が増えました。一言一言を見直すことは大事です。しかし、それに非常に時間がかかってしまうとしたらそれは本当に良いこと、ではありません。今のような「勉強ができる状態」がずっと続くわけでないこ...
特許明細書 思い込みと言語感覚
昨日ようやく翻訳を終えました。この作業の中で考えたこと、あるいは脱線しながら見えてきたことを、今更ながら振り返っておこうと思います。背景となった文（原文）：In this way, liquid 11 can be provided in ...
特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す２
前回に続き、自力翻訳と公開訳の比較を通じて、訳文と構文、技術的背景の理解を見直しました。前回に続き、ASMLの液浸露光装置に関する特許明細書を題材にしています。In this way, liquid 11 can be provided i...
特許明細書 見直しの見直し
前回自力翻訳に関し、ブログでヒントをいただきありがとうございます。During exposure, the substrate table is moved relative to the immersion system (and the...
学習記録 液浸露光装置の訳を見直す1
自力翻訳と公開訳の比較を見直しました。今回は、ASMLの特許明細書を題材にしながら振り返ります。Various orientations and numbers of in- and out-lets positioned around t...
特許明細書 液浸露光を翻訳する中で理解が深まった『見かけ上の波長』
先月未完であった自力翻訳を終え、現在は見直し作業に入っています。自力翻訳をしたのは、以下の明細書です。US8233134B2"Lithographic apparatus and device manufacturing method"AS...