2025-11

なぜシールドが必要かここまでで、プラズマがどのようにウエハ表面をエッチングするかを見てきました。エッチングはエッチングチャンバという低圧の密封空間で行われますが、ガスなのでチャンバ内に自然に広がります。しかし削りたいのは、ウエハ表面のパター...

前回は、ウェット/ドライ、スパッタ/プラズマ/RIEというエッチング方式の概要を確認しました。今回は、その中でもよく用いられるRIEにおけるプラズマにフォーカスしてみます。プラズマエッチングで何が起きているか半導体エッチングにおけるプラズマ...

平行平板型ドライエッチャの特許をきっかけに、エッチング装置を起点に、明細書や本を読んでいます。そこで一度、エッチングの概要、エッチングとプラズマとの関係を整理してみます。今回は、エッチングとは何か、ウェットとドライ、等方性・異方性とは、まで...

今回、この明細書を翻訳しました。古い特許ですが、平行平板型のプラズマエッチング装置の基本を理解するのに適していると考え選びました。訳し終えた段階での理解をまとめます。"Plasma etching apparatus utilizing p...

ご指摘をありがとうございました。いただいたコメントをきっかけに、"load lock"という言葉の本来の構造を再度確認しました。前回のブログでは、主にパージガスの流れ（discharge）に焦点を当てていました。そのため、"load loc...