特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す3 見直しの気づきの最終版3です。"flow past"の検討The method also includes substantially preventing a gas from flowing past a deformable seal... 2025.04.09 特許明細書
特許明細書 思い込みと言語感覚 昨日ようやく翻訳を終えました。この作業の中で考えたこと、あるいは脱線しながら見えてきたことを、今更ながら振り返っておこうと思います。背景となった文(原文):In this way, liquid 11 can be provided in ... 2025.04.09 特許明細書
特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す2 前回に続き、自力翻訳と公開訳の比較を通じて、訳文と構文、技術的背景の理解を見直しました。前回に続き、ASMLの液浸露光装置に関する特許明細書を題材にしています。In this way, liquid 11 can be provided i... 2025.03.30 特許明細書
特許明細書 見直しの見直し 前回自力翻訳に関し、ブログでヒントをいただきありがとうございます。During exposure, the substrate table is moved relative to the immersion system (and the... 2025.03.30 特許明細書
特許明細書 液浸露光を翻訳する中で理解が深まった『見かけ上の波長』 先月未完であった自力翻訳を終え、現在は見直し作業に入っています。自力翻訳をしたのは、以下の明細書です。US8233134B2"Lithographic apparatus and device manufacturing method"AS... 2025.03.17 特許明細書
特許明細書 露光装置の構造(整理メモ) 翻訳作業の中で整理した露光装置の構造についてまとめました。露光装置の構造露光装置は、大きく以下の要素で構成されます。光学系+精密駆動ステージ+制御(位置決めなど)システム+温度・真空管理(環境制御)システム光学系を詳しく見ると、照明系、投影... 2025.02.15 特許明細書
特許明細書 液浸露光における脱イオン処理の必要性 先日読んでいた液浸露光装置の特許明細書の一部、脱イオン装置に関する記述についてまとめます。液浸露光における脱イオン処理の必要性半導体製造では回路線幅がナノメートル(nm)レベルの精密加工が行われており、わずかな不純物の混入が製造時の良品率に... 2025.02.10 特許明細書
特許明細書 invention, aspect, embodiment, example のちがい 英文明細書を読み進めるなかで、特許明細書における重要な概念である invention(発明)、aspect(態様)、embodiment(実施形態)、example(実施例) の違いや関係性を理解し、整理しておくことが必要だと感じました。本... 2025.01.11 特許明細書