特許明細書 液浸露光装置の訳を見直す２
前回に続き、自力翻訳と公開訳の比較を通じて、訳文と構文、技術的背景の理解を見直しました。前回に続き、ASMLの液浸露光装置に関する特許明細書を題材にしています。In this way, liquid 11 can be provided i...
2025-03
特許明細書 特許明細書 見直しの見直し
前回自力翻訳に関し、ブログでヒントをいただきありがとうございます。During exposure, the substrate table is moved relative to the immersion system (and the...
学習記録 液浸露光装置の訳を見直す1
自力翻訳と公開訳の比較を見直しました。今回は、ASMLの特許明細書を題材にしながら振り返ります。Various orientations and numbers of in- and out-lets positioned around t...
特許明細書 液浸露光を翻訳する中で理解が深まった『見かけ上の波長』
先月未完であった自力翻訳を終え、現在は見直し作業に入っています。自力翻訳をしたのは、以下の明細書です。US8233134B2"Lithographic apparatus and device manufacturing method"AS...
記録 アウトプット3ヶ月目の振り返り
随分間隔が空いた更新になりました。前回立てた目標の振り返り・新たな明細書を読む思った以上に時間がかかるものの、分野を絞り継続中です。ざっくり内容を把握するには結局調べ物も多いのですが、時間を決めて読み続けます。・週2回のブログ更新を継続記事...